芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、电子器件厂呈酸性烟粉尘简介
集成电路芯片研发的过程中会生产大规模含酸性烟粉尘,重要来源地于刻蚀、难以清理、粘附等工艺流程重要环节。以上烟粉尘物质更复杂,一般具有下例这些:
氟化物(HF、SiF₄等)
:主耍源于刻蚀工序,体现了强氧化性和渗透性。
氯化氢(HCl)
:多出现在冲洗和刻蚀环节,可溶于水转变成强酸水溶液。
氢氧化钠雾(H₂SO₄)
:需用于晶圆擦拭,废水中含有狗瘟液滴,易产生酸雾。
氮阳极非金属氧化物(NOx)
:环节室温技艺会生成NOx,还具有有趣性且易形成了光药剂学烟尘。
这有机废气除了生锈产品,还可能对周围环境导致的加重严重污染,因必需路经效率高办理方可进行排放。
二、咸性排放物加工处理困难与思路
(1)整理重点难点
部分繁杂
:各个制作工艺出现的有机废气营养成分性别差异大,需真性需求加工。
溶液浓度变化大
:生产的整个过程中有机废气直接占有量下跌不平衡,对除理设施的适于性条件高。
侵蚀性强
:偏酸气理解侵蚀管道铺设和仪器,需所采用耐侵蚀文件。
排放量规范标准要从严
:鑫霖环保芯片厂一般说来需需求《大气磅礴造成的废弃物总体摆放标准规定》(GB 16297-1996)等标准让。
(2)外理要素
预补救
:利用自动喷淋系统塔或自吸式吸附性我们要除大颗粒状物和区域酸碱性乙炔气。
中心解决
:通用湿式洗衣(碱液与)、吸附剂法(吸附性炭、大分子筛)或烧燃法(RTO)。
后处理工艺
:除雾安装快速清理小液滴,确定达到标准直接排放。
自动化化设定
:时时检测烟粉尘氧化还原电位,进行调节加工参数指标以增加利用率。
三、经典的装修案例解读
事例1:某香港国际集成ic公司氟化氢(HF)有机废气除理大型项目
废气排放亮点
:
主要材料:HF(渗透压50-200mg/m³)、进样器SiF₄
功率:20,000m³/h
温度表:恒温的
正确处理计划书
:
两极喷洒吸附
:
第一点级运用NaOH饱和溶液自喷,除去大个部分HF。
第二个级用Ca(OH)₂稀硫酸进一部水净化,形成CaF₂水解。
除雾安装
:快速纤维板除雾器弄掉混入液滴。
会工业自动化管理
:pH线监测器,手动加量确认结合高效率。
外理使用效果
:
HF排放标准密度<1mg/m³,出掉率>99%。
平台运动平稳,运营资金低。