该厂为8屏幕尺寸晶圆生產线一体化的超去离子水体系，天天发生含硅废气150吨。废气中虽无巨资属，但硅含量高易结渣，且电阻值率需到18MΩ·cm才能够使用。应有净化处理工学院艺不了能够满足新颁布实施的《光学制造业水环保问题物释放规格》（GB39731-2020）相当释放允许值。 工业废水营养成分特别 一般感染物 ：胶体溶液硅（200-300mg/L）、颗粒状硅（粒度分布0.1-1μm） 异常规定 ：TOC<10μg/L，硼含水量<5μg/L 饮用水质性能 ：低纯水电导率（<50μS/cm）但硅单质基本特征非常复杂 进行处理的工艺注意事项 改革创新用于"梯级膜分割+电去化合物"搭配组合工艺技术： 微滤预处置 ：1μm淘瓷膜拦阻大科粒硅，通量稳定80LMH 正离子互相交换环氧树脂 ：D201大孔树脂材料进行性吸附性硅酸原子核 2级RO操作系统 ：第1 段再利用率60%，第二名段利用高脱硼膜零件 EDI电去阳离子 ：电压电流硬度2A/m²，不断地快速清理残渣化合物 紫外线消菌 ：254nm紫外线灭菌灯线药量40mJ/cm² 技术工艺优点 开发管理专用的阻硅剂（生产胺类复合型物），延长膜造成的污染时间段3倍 EDI摸块改革创新流道规划，硅避开率完善至99.8% 网络硅分享仪（预估时间范围0.1-500μg/L）确保精准服务调整 行驶预期效果 经再者方测试： 总硅从280mg/L降为0.05mg/L 硼含量从8μg/L减至0.3μg/L 系统性回收公司率从原40%提高自己至68% 膜换的周期延长时间至5年，年运作制造费拉低35%