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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

投资项目背景图片 该类目在长四角省份某祖国级半导中小型企业校园内,中小型企业主耍产生8英尺和12英尺晶圆,日常量可达到2万片。跟随着产能分析大幅提升,本身的污水清理操作系统已就没有办法能够满足绿色特殊要求,亟需升极工程建筑。好项目总投资的约11000万元,制作清理意识为300吨/日,于未来三年时间内建好投入运营。 污废水 营养成分及来源于 该制造业企业晶圆划区程序呈现的污水主要是包含了下述物质: 切割机阶段中的使用的研磨设备液农药残留物,大部分成份为二脱色硅顆粒、外层渗透性剂和有机的调用剂 晶圆外表洁净呈现的含氟生活污水,氟阴离子酸度在80-120mg/L 大量巨资属铁离子如铜、镍等,渠道于锯开生产工具摩擦 有机会容剂留下,涉及异丙醇、异丙醇等 pH值下跌大,常见在4-10左右 解决生产技术标准流程 涉及废污水基本特征,规划运用"有机化学预办理+生物化学办理+深浅办理"的组合成工序: 调理池 :多样化土质蓄水量,使用pH一直在线检测站和手动加量系统软件 沥青混凝土结晶 :加药系统PAC和PAM,删去浮悬物和溶液元素 气浮单元尺寸 :进行溶气气浮艺进一部消除渺小颗粒剂和方面无机物 生物化进行处理 :主要采用MBR膜怪物生理催化反应器,工业废水氨水浓度确保在8000-10000mg/L 淬硬层处里 :活性氧炭离心分离+反加入流程,抓实喷水不合格 生活污水处里 :板框带式压滤机脱水怎么办,工业废水含水分率调至60%下类 处理功能 设备安稳作业后,出液水质标准规定根本达到了《光电工业企业水被污染的物直接排放口标准规定》(GB39731-2020)专门直接排放口允许值规定要求: COD<30mg/L 氟阴阳离子<5mg/L 悬浮按钮物<10mg/L 血本属四项指標均不超过规定值 工程每次可限制生态破坏物产生量约COD 32吨、氟化物8.5吨,回收水率超过75%这,为企业的省去水电费开支约110万元/年。

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