半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
投资项目背景图片
该类目在长四角省份某祖国级半导中小型企业校园内,中小型企业主耍产生8英尺和12英尺晶圆,日常量可达到2万片。跟随着产能分析大幅提升,本身的污水清理操作系统已就没有办法能够满足绿色特殊要求,亟需升极工程建筑。好项目总投资的约11000万元,制作清理意识为300吨/日,于未来三年时间内建好投入运营。
污废水 营养成分及来源于
该制造业企业晶圆划区程序呈现的污水主要是包含了下述物质:
切割机阶段中的使用的研磨设备液农药残留物,大部分成份为二脱色硅顆粒、外层渗透性剂和有机的调用剂
晶圆外表洁净呈现的含氟生活污水,氟阴离子酸度在80-120mg/L
大量巨资属铁离子如铜、镍等,渠道于锯开生产工具摩擦
有机会容剂留下,涉及异丙醇、异丙醇等
pH值下跌大,常见在4-10左右
解决生产技术标准流程
涉及废污水基本特征,规划运用"有机化学预办理+生物化学办理+深浅办理"的组合成工序:
调理池
:多样化土质蓄水量,使用pH一直在线检测站和手动加量系统软件
沥青混凝土结晶
:加药系统PAC和PAM,删去浮悬物和溶液元素
气浮单元尺寸
:进行溶气气浮艺进一部消除渺小颗粒剂和方面无机物
生物化进行处理
:主要采用MBR膜怪物生理催化反应器,工业废水氨水浓度确保在8000-10000mg/L
淬硬层处里
:活性氧炭离心分离+反加入流程,抓实喷水不合格
生活污水处里
:板框带式压滤机脱水怎么办,工业废水含水分率调至60%下类
处理功能
设备安稳作业后,出液水质标准规定根本达到了《光电工业企业水被污染的物直接排放口标准规定》(GB39731-2020)专门直接排放口允许值规定要求:
COD<30mg/L
氟阴阳离子<5mg/L
悬浮按钮物<10mg/L
血本属四项指標均不超过规定值
工程每次可限制生态破坏物产生量约COD 32吨、氟化物8.5吨,回收水率超过75%这,为企业的省去水电费开支约110万元/年。